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与专利侵权判定不同，集成电路布图设计侵权判定采用“接触 + 实质性相似”的判断方法。这更接近于著作权侵权的思路。
“接触”的认定：由于布图设计并非以公开换保护，不能以登记备案当然推定已公开、任何人都有接触可能。但也不能要求权利人举证证明实际发生了接触。只要权利人能证明被诉侵权人有接触可能（如被诉侵权人与权利人有业务往来、员工跳槽等），就完成初步举证。经比对认定实质相似后，举证责任转移给被诉侵权人，由其反驳。
“实质性相似”的判断：应以布图设计创作者和集成电路制造者的角度进行。他们应知晓现有常规设计和制造工艺，知晓在受保护布图设计创作时所有的公认常规设计。
比对对象：根据权利人明确的独创性部分进行。如果主张整体独创性，则比对整体；如果主张部分独创性，则比对该部分。
“接触 + 实质性相似”规则平衡了权利人和被诉侵权人的利益，既减轻了权利人的举证负担，又给被诉侵权人留下了抗辩空间。
天禾（上海）律师事务所陈军律师提示：权利人应重点收集被诉侵权人有接触可能的证据，如员工曾在本公司任职、双方有过合作关系等。被诉侵权人则可以从“无接触可能”和“不相似”两个角度抗辩，例如证明其设计是独立研发，或者来源于公开渠道。