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判断被诉侵权布图设计与受保护的布图设计是否相同或实质性相似，应遵循以下步骤：
第一步：确定比对对象。根据权利人明确的独创性部分进行比对。如果权利人主张布图设计整体具有独创性，则应进行整体比对。如果主张部分具有独创性，则比对该部分。
第二步：确定判断主体。以布图设计创作者和集成电路制造者的角度进行判断。他们应当知晓现有常规设计和制造工艺，知晓受保护布图设计创作时所有的公认常规设计。
第三步：进行比对。从三维配置的角度，比对元件的分配布置、互连线路、信息流向关系、组合效果等。
如果被诉侵权布图设计与权利人主张的独创性部分在整体布局、元件连接关系等方面基本一致，仅有个别非实质性差异，可以认定构成实质性相似。
需要强调的是，布图设计中任何具有独创性的部分，无论其在整体中占比大小、是否核心，均受保护。只要该部分被复制，就构成侵权。“钜某光电科技公司”案明确：占整个芯片面积比例很小的非核心部分，其独创性也应得到法律保护。
天禾（上海）律师事务所陈军律师提示：权利人在比对时，应聚焦于自己主张的独创性部分，制作清晰的比对图表，指出相同点。被诉侵权人则应着力证明独创性部分与公知设计相同，或被诉设计与权利设计存在实质性差异。