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2026年7月23日，国务院总理李强签署第842号国务院令，公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》），自2026年10月1日起施行。这是该条例自2001年颁布以来的首次全面修订。天禾（上海）律师事务所陈军律师实务视角，逐章解读修订要点，分析对集成电路企业的影响，并提出合规建议。
2026年7月23日，国务院公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》（国务院令第842号），自2026年10月1日起施行。这是继2001年4月2日《条例》以国务院令第300号公布以来，时隔25年的首次全面修订。
集成电路布图设计专有权是与专利、商标、著作权并列的知识产权类型。此次修订正值我国集成电路产业快速发展的关键时期——2025年我国集成电路产业销售额突破1.5万亿元，布图设计登记量连续多年位居全球前列。在这一背景下，《条例》的修订具有重要的现实意义。
本文从律师实务视角出发，对修订后的《条例》逐章解读，分析对集成电路企业的影响，并提出合规建议。
一、修订背景：为何此时修改？
现行《集成电路布图设计保护条例》于2001年施行，至今已25年。期间，集成电路产业经历了从微米级到纳米级、从单一功能到系统级芯片的跨越式发展。原有的制度设计在保护客体、侵权救济、执法机制等方面已难以适应产业发展需求。
本次修订的核心目标可概括为三个层面：扩大保护范围、强化侵权救济、优化登记管理。从条文变化来看，修订涉及保护客体扩展、独创性标准细化、惩罚性赔偿引入、行政保护强化等多个维度。
二、总则部分：五大基础性变化
（一）保护客体扩展至集成光子、量子功能集成电路
《条例》第三条在原定义的基础上，新增一款规定：“对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护。”
律师解读：这是本次修订最具前瞻性的条款之一。传统集成电路以电子为信息载体，而光子集成电路和量子集成电路代表了下一代信息技术的方向。将这两类纳入保护范围，为相关领域的创新成果提供了明确的法律保障。对于从事光子芯片、量子芯片研发的企业，这意味着其布图设计可以依法获得专有权保护。
（二）明确贯彻国家知识产权战略
《条例》第二条规定：“集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署，提升我国集成电路布图设计创造、运用、保护、管理和服务水平。”
律师解读：这一条款将布图设计保护提升至国家战略高度。对律师而言，这意味着布图设计相关法律服务将更加受到重视，市场需求将持续扩大。
（三）独创性标准得以明确
《条例》第六条规定：“受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。”
律师解读：原条例对独创性的规定较为原则性。修订后的条文明确了两个判断标准：一是“创作者自己的智力劳动成果”（主观标准），二是“在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计”（客观标准）。这一细化对实务中判断布图设计是否具有独创性提供了更清晰的指引。
（四）诚实信用原则与反垄断衔接
《条例》第九条规定：“申请布图设计登记和行使布图设计专有权应当遵循诚实信用原则。不得滥用布图设计专有权损害国家利益、社会公共利益或者他人合法权益。滥用布图设计专有权，排除或者限制竞争，构成垄断行为的，依照《中华人民共和国反垄断法》处理。”
律师解读：这是本次修订新增的重要条款。一方面，明确了布图设计申请和行使中的诚实信用要求，与《专利法》修订中打击非正常申请、恶意诉讼的立法精神保持一致；另一方面，首次在布图设计保护制度中引入反垄断衔接条款，为处理布图设计领域的滥用市场支配地位、垄断协议等问题提供了明确的法律依据。
（五）加强公共服务
《条例》第十条规定：“国务院知识产权行政部门应当会同有关部门采取措施，加强布图设计公共服务，促进布图设计运用。”
律师解读：这一条款体现了从“单纯保护”向“保护与运用并重”的立法思路转变，与《知识产权“十五五”规划》中强调的“转化运用”方向一脉相承。
三、专有权部分：权利归属与保护期
（一）权利归属规则明确
《条例》第十三条至第十五条明确了布图设计专有权的归属规则：
职务创作：由法人或者非法人组织主持，依据其意志创作，并由其承担责任的布图设计，该法人或者非法人组织为创作者。
合作创作：专有权归属由合作者约定；未约定的，由合作者共同享有。
委托创作：专有权归属由委托人和受托人约定；未约定的，由受托人享有。
《条例》第十六条进一步规定，法人或者非法人组织应当依照《促进科技成果转化法》和国家有关规定，对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬。
律师解读：委托创作中“未约定则归受托人”的规则，与《著作权法》中委托作品的归属规则一致。对集成电路企业而言，在委托设计合同中务必明确约定布图设计专有权的归属，否则可能面临权利旁落的风险。
（二）保护期计算规则
《条例》第十七条规定：“布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。”
律师解读：保护期计算采取“双起点、较前为准”的规则，最长期限实际上为自创作完成之日起15年。企业在布图设计创作完成后，应及时评估是否申请登记，避免因商业利用过早启动保护期计算而缩短实际保护时间。
四、登记程序：实务操作要点
（一）申请材料要求
《条例》第二十二条规定，申请布图设计登记应当提交：登记申请表、布图设计的复制件或者图样、独创性声明及规定的其他材料。第二十三条规定，复制件或者图样应当包含布图设计的必要信息，能够清楚地显示该布图设计具有独创性的部分。
《条例》第二十四条规定：“独创性声明应当指明布图设计具有独创性的设计区域、设计要点以及相应功能。布图设计作为整体具有独创性的，应当在独创性声明中具体说明。”
律师解读：独创性声明是布图设计登记的核心文件，也是后续侵权诉讼中确定保护范围的关键依据。实务中应重点关注两点：第一，独创性声明的内容将直接影响专有权的保护范围——声明越具体、越清晰，维权时的可操作性越强；第二，《条例》第三十四条规定“受保护的布图设计以登记的布图设计的复制件或者图样所显示的为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性”，说明声明在权利解释中具有辅助作用，但复制件和图样仍是权利保护的基础。
（二）新颖性窗口期
《条例》第二十六条规定：“布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。”
律师解读：这是布图设计登记中的“新颖性窗口期”——从首次商业利用之日起只有2年时间申请登记，逾期将丧失获得保护的机会。企业应当在布图设计投入商业利用前或之后2年内完成登记申请，避免因疏忽而永久失去保护资格。
（三）登记撤销制度
《条例》第三十条规定，布图设计获准登记后，如发现不符合规定，国务院知识产权行政部门应当予以撤销；任何人也可以请求撤销。第三十一条明确规定：“布图设计登记被撤销的，该布图设计专有权视为自始即不存在。”
律师解读：这一制度与专利无效宣告程序类似，是布图设计专有权稳定性的重要保障机制。在侵权诉讼中，被控侵权人可以依据此条款请求撤销涉案布图设计登记，实现“釜底抽薪”的效果。
五、专有权行使：转让、许可与非自愿许可
（一）转让与许可制度
《条例》第三十五条规定，布图设计权利人可以将其专有权转让或者许可他人使用。转让应当订立书面合同并向国务院知识产权行政部门登记，自登记之日起生效。许可他人使用的，应当订立书面合同，并自合同生效之日起3个月内向国务院知识产权行政部门备案。以布图设计专有权出质的，应当办理出质登记。
律师解读：转让采用“登记生效主义”——未登记则不发生权利转移的法律效果。这与专利权转让的规则一致。许可采用“备案制”，虽不影响许可合同本身的效力，但备案是对抗第三人的重要依据。建议企业在签订许可合同后及时办理备案，以增强权利公示效力。
（二）共有权利的行使
《条例》第三十六条规定，布图设计专有权的共有人对权利行使有约定的从约定；没有约定的，共有人可以单独使用或者以普通许可方式许可他人使用，收取的使用费应当在共有人之间分配。除此之外的其他行使方式，应当取得全体共有人的同意。
律师解读：这一规则与《民法典》关于共有的规定保持一致，为共有布图设计的商业化运营提供了明确的法律框架。
（三）权利限制：合理使用与权利用尽
《条例》第三十七条规定了三种可以不經许可、不支付使用费的情形：
为个人目的或者仅为评价、分析、研究、教学等目的而复制；
在评价、分析他人布图设计的基础上创作出具有独创性的布图设计；
对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者投入商业利用。
《条例》第三十八条规定了权利用尽原则：受保护的布图设计由权利人或者经其许可投放市场后，他人再次商业利用的，可以不经许可，并不支付使用费。
律师解读：合理使用条款中的第二项——“在分析他人布图设计的基础上创作出具有独创性的布图设计”——实际上允许了“反向工程”的合法化，这对集成电路行业的竞争和创新具有积极意义。权利用尽原则则保障了产品在首次销售后的自由流通。
六、法律责任：惩罚性赔偿正式引入
（一）侵权认定与救济途径
《条例》第四十四条规定了两种侵权行为：
复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分；
为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品。
《条例》第四十五条规定了三种救济途径：协商解决、向人民法院起诉、请求国务院知识产权行政部门处理。行政处理可以责令停止侵权、没收销毁侵权产品。国务院知识产权行政部门还可以应请求就赔偿数额进行调解。
（二）惩罚性赔偿（核心亮点）
《条例》第四十六条规定：“侵犯布图设计专有权的赔偿数额按照权利人因被侵权所受到的实际损失或者侵权人因侵权所获得的利益确定；权利人的损失或者侵权人获得的利益难以确定的，参照该布图设计许可使用费的倍数合理确定。对故意侵犯布图设计专有权，情节严重的，可以在按照上述方法确定数额的1倍以上5倍以下确定赔偿数额。赔偿数额还应当包括权利人为制止侵权行为所支付的合理开支。”
律师解读：这是本次修订最值得关注的条款之一。惩罚性赔偿制度的引入，使布图设计侵权的赔偿标准与《专利法》《商标法》《著作权法》保持一致——故意侵权且情节严重的，最高可判赔5倍惩罚性赔偿。
对权利人的意义：维权动力显著增强。过去布图设计侵权赔偿数额普遍较低，难以有效遏制侵权行为。惩罚性赔偿的引入，使得权利人有了更强的维权积极性。
对企业的警示：侵权风险急剧上升。企业应当建立完善的布图设计合规审查机制，在产品研发、生产、销售各环节确保不侵犯他人布图设计专有权，避免因故意侵权而面临高额赔偿。
（三）善意使用者的责任
《条例》第四十七条规定了“善意侵权”的特殊规则：
在获得含有受保护的布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品时，不知道也没有合理理由应当知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的，不视为侵权。
前款行为人得到其中含有非法复制的布图设计的明确通知后，可以继续将现有的存货或者此前的订货投入商业利用，但应当向布图设计权利人支付合理的使用费。
律师解读：这一条款平衡了权利保护与交易安全。善意使用者不构成侵权，但在收到通知后继续使用需支付合理使用费。对集成电路产品的经销商和终端用户而言，这一规定提供了明确的行为指引——收到侵权通知后，应主动与权利人协商使用费，避免从“善意”转为“恶意”。
七、对集成电路企业的实务建议
综合上述解读，对集成电路设计企业和相关主体提出以下建议：
第一，重视布图设计登记的战略价值。布图设计专有权经登记产生，未经登记不受保护。企业应建立布图设计创作—评估—登记的标准化流程，在首次商业利用之日起2年内完成登记申请。
第二，审慎处理委托设计中的权利归属。委托创作中未约定专有权归属的，归受托人享有。委托方应当在合同中明确约定布图设计专有权的归属，避免“为他人作嫁衣”。
第三，规范独创性声明的撰写。独创性声明应当指明具有独创性的设计区域、设计要点及相应功能。建议由专业知识产权律师参与声明的起草和审核，确保声明内容既满足登记要求，又能在后续维权中发挥最大效用。
第四，建立侵权风险防范机制。惩罚性赔偿的引入大幅提高了侵权成本。企业应建立布图设计侵权风险排查机制，在新产品开发前进行必要的检索和分析，避免“踩雷”。
第五，关注行政保护与司法保护的衔接。《条例》提供了行政处理和司法诉讼两种救济途径。权利人在维权时可以根据案件具体情况选择最有利的路径——行政处理周期短、成本低，司法诉讼赔偿力度大。
第六，积极利用合理使用条款。反向工程在布图设计领域被明确允许。企业在遵守诚信原则的前提下，可以通过分析、研究他人布图设计来推动自身技术创新。
结语
《集成电路布图设计保护条例》的修订，是我国知识产权法律制度完善的又一重要里程碑。从保护客体扩展至光子、量子集成电路，到惩罚性赔偿的正式引入，再到行政保护与司法保护的强化衔接，本次修订为集成电路产业的高质量发展提供了更加坚实的法律保障。
对于集成电路企业而言，这既是机遇也是挑战——更强的保护意味着更大的创新激励，但也意味着更高的合规要求。对于知识产权律师而言，布图设计领域将成为一个值得深耕的业务方向。理解新规、用好新规，方能在新一轮产业竞争中把握先机。
关键词：集成电路布图设计保护条例、国务院令第842号、布图设计专有权、惩罚性赔偿、独创性标准、布图设计登记、反向工程、集成电路知识产权
本文作者：陈军律师，天禾（上海）律师事务所